[发明专利]防止形成水垢的试剂和防止形成水垢的方法有效
| 申请号： | 200680050906.8 | 申请日： | 2006-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN101356122A | 公开（公告）日： | 2009-01-28 |
| 发明（设计）人： | 小笠原启隆 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社 |
| 主分类号： | C02F5/10 | 分类号： | C02F5/10;C02F5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在水体系中在50－250℃和pH≥9的条件下，防止形成水垢的方法，该方法包括添加具有羧基的聚合物或其盐和具有膦酰基的化合物或其盐的结合物到水体系中；和在水体系中在50－250℃和pH≥9的条件下，防止形成水垢的试剂，所述试剂包括具有羧基的聚合物或其盐和具有膦酰基的化合物或其盐的结合物。通过添加小量的该试剂，可有效地防止水垢形成。在锅炉内的水体系中，在生产钢的旋转炉集尘用的水体系中，和在生产纸浆中，在蒸煮器内与在黑液的浓缩步骤中的水体系中，有效地防止形成水垢。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 形成 水垢 试剂 方法 | ||
【主权项】：
1.在水体系中在50-250℃和pH≥9的条件下，防止形成水垢的方法，该方法包括添加具有羧基的聚合物或其盐和具有膦酰基的化合物或其盐的结合物到水体系中。
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