[发明专利]防止形成水垢的试剂和防止形成水垢的方法有效
申请号: | 200680050906.8 | 申请日: | 2006-12-25 |
公开(公告)号: | CN101356122A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 小笠原启隆 | 申请(专利权)人: | 栗田工业株式会社 |
主分类号: | C02F5/10 | 分类号: | C02F5/10;C02F5/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防止 形成 水垢 试剂 方法 | ||
1.在水体系中在50-250℃和pH≥9的条件下,防止形成水垢的 方法,该方法包括添加具有羧基的聚合物或其盐和具有膦酰基的化合 物或其盐的结合物到水体系中,并且具有羧基的聚合物或其盐重量用量 与具有磷酰基的化合物或其盐重量用量之比为40∶60到95∶5;其中所述 具有羧基的聚合物的重均分子量为300-50000;所述具有羧基的聚合 物或其盐选自聚丙烯酸的钠盐,聚马来酸,丙烯酸和马来酸的共聚物 的钠盐,丙烯酸和2-羟基-3-烯丙氧基丙磺酸的共聚物的钠盐,丙烯 酸、马来酸和乙酸乙烯酯的共聚物,马来酸和异丁烯的共聚物的钠盐。
2.权利要求1的防止形成水垢的方法,其中具有羧基的聚合物或其 盐重量用量与具有磷酰基的化合物或其盐重量用量之比为40∶60到 85∶15。
3.权利要求1-2中任一项的防止形成水垢的方法,其中具有膦酰 基的化合物是1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸。
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