[发明专利]金属化电容器用薄膜和使用该薄膜的电容器无效
申请号: | 200680050894.9 | 申请日: | 2006-12-20 |
公开(公告)号: | CN101356604A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 宫本亮;广田草人 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | H01G4/18 | 分类号: | H01G4/18;B32B15/08 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供以往得不到的耐受电压优异的金属化电容器用薄膜和使用该薄膜的电容器。本发明的金属化电容器用薄膜,其特征在于,在高分子薄膜的至少一面上,从高分子薄膜侧起顺序地层叠有由硅氧烷组合物形成的涂层和金属层。 | ||
搜索关键词: | 金属化 电容 器用 薄膜 使用 电容器 | ||
【主权项】:
1.一种金属化电容器用薄膜,在高分子薄膜的至少一面上,从高分子薄膜侧起顺序地层叠有成分为硅氧烷组合物的涂层和金属层。
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