[发明专利]含有药物的蜡基质粒子的制造方法、用于该方法的挤出机、及含有西洛他唑的缓释制剂有效
申请号: | 200680048206.5 | 申请日: | 2006-12-21 |
公开(公告)号: | CN101340882A | 公开(公告)日: | 2009-01-07 |
发明(设计)人: | 友平裕三;山口恭生 | 申请(专利权)人: | 大塚制药株式会社 |
主分类号: | A61J3/06 | 分类号: | A61J3/06;A61K9/14;A61K31/4709;A61K31/522;A61K47/12;A61K47/14;A61K47/44;B01J2/04 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种以简便的方法制造含有药物的蜡基质粒子特别是平均粒径1mm以下的含有药物的蜡基质粒子,且在从熔融至喷雾的工序中不发生由熔融药物的重结晶导致的液体阻塞。经过以下工序(i)及(ii),制造含有药物及蜡的含有药物的蜡基质粒子:工序(i):向挤出机中供给所述药物及蜡,所述挤出机中滚筒(1)及冲模的温度设定为所述蜡的熔点以上的温度;工序(ii):一边在所述挤出机内熔融混炼所述药物及蜡,一边从喷嘴(5)向温度低于所述蜡的熔点的环境气体中喷雾排出所述药物及蜡的熔融混炼物,由此成型为粒子状,所述喷嘴(5)直接安装在冲模部(3)上,所述冲模部(3)设置在所述挤出机滚筒(1)的前端。 | ||
搜索关键词: | 含有 药物 基质 粒子 制造 方法 用于 挤出机 制剂 | ||
【主权项】:
1、含有至少1种药物及至少1种蜡的含药物蜡基质粒子的制造方法,包含以下工序,工序(i):向挤出机中供给所述至少1种药物及至少1种蜡,所述挤出机的滚筒及冲模的温度设定为所述蜡的熔点以上的温度,及工序(ii):一边在所述挤出机内熔融混炼所述药物及蜡,一边从喷嘴向温度低于所述蜡的熔点的环境气体中喷雾排出熔融混炼的所述药物及蜡的混合物,由此成型为粒子状,所述喷嘴直接安装在冲模部,所述冲模部设置于所述挤出机滚筒的前端。
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