[发明专利]吡咯并[2,3－c]吡啶衍生物

摘要

本发明涉及式(I)化合物及其药用盐，其中R¹至R⁴如说明书和权利要求书中定义。所述化合物可用于治疗和/或预防与H3受体的调节有关的疾病。

主权项

1.通式I的化合物：其中R¹选自：低级烷基，低级链烯基，低级炔基，环烷基，低级环烷基烷基，低级羟基烷基，低级烷氧基烷基，低级烷硫基烷基，低级二烷基氨基烷基，低级二烷基氨基甲酰基烷基，未取代的或被一个或两个基团取代的苯基，所述的基团独立地选自：低级烷基，低级卤代烷氧基和低级羟基烷基，低级苯基烷基，其中苯环可以是未取代的或被一个或两个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级烷氧基和低级羟基烷基，低级杂芳基烷基，其中所述杂芳基环可以是未取代的或被一个或两个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级烷氧基和低级羟基烷基，低级杂环基，其中所述杂环基环可以是未取代的或被一个或两个低级烷基取代的，和低级杂环基烷基，其中所述杂环基环可以是未取代的或被一个或两个低级烷基取代的；R²选自：氢，低级烷基，低级链烯基，低级炔基，环烷基，低级环烷基烷基，低级羟基烷基，低级烷氧基烷基，低级烷硫基烷基，低级二烷基氨基烷基，低级二烷基氨基甲酰基烷基，未取代的或被一个或两个基团取代的苯基，所述的基团独立地选自：低级烷基，低级卤代烷氧基和低级羟基烷基，低级苯基烷基，其中苯环可以是未取代的或被一个或两个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级烷氧基和低级羟基烷基，低级杂芳基烷基，其中所述杂芳基环可以是未取代的或被一个或两个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级烷氧基和低级羟基烷基，和低级杂环基，其中所述杂环基环可以是未取代的或被一个或两个低级烷基取代的，和低级杂环基烷基，其中所述杂环基环可以是未取代的或被一个或两个低级烷基取代的；或R¹和R²与它们连接的氮原子一起形成4-，5-，6-或7-元饱和或部分不饱和的杂环，所述的杂环任选含有另外的选自氮，氧或硫中的杂原子、亚磺酰基或磺酰基，所述饱和或部分不饱和的杂环是未取代的，或被一个、两个或三个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，卤代烷基，羟基，低级羟基烷基，低级烷氧基，氧代，苯基，苄基，吡啶基和氨基甲酰基，或是与苯环稠合的，所述的苯环是未取代的，或被一个、两个或三个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，低级烷氧基和卤素；R³选自：氢，低级烷基，低级羟基烷基，低级烷氧基烷基，低级卤代烷基，低级环烷基烷基，低级烷酰基，低级氰基烷基，低级烷基磺酰基，苯基磺酰基，其中苯环可以是未取代的或被一个或两个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级烷氧基，低级卤代烷氧基和低级羟基烷基，未取代的或被一个或两个基团取代的苯基，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级烷氧基，低级卤代烷氧基和低级羟基烷基，低级苯基烷基，其中苯环可以是未取代的或被一个或两个基团取代的，所述的基团独立地选自：低级烷基，卤素，低级烷氧基，低级卤代烷氧基和低级羟基烷基，和未取代的或被一个或两个基团取代的杂芳基，所述的基团独立地选自：低级烷基或卤素；R⁴是低级烷基或环烷基；及其药用盐。