[发明专利]具有非均等间距和/或宽度的薄片的用于X射线设备的防散射栅格无效

专利信息
申请号: 200680046663.0 申请日: 2006-11-29
公开(公告)号: CN101326591A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: J·C·W·范弗罗恩霍芬 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G21K1/02 分类号: G21K1/02;G21K3/00;G01N23/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 黄睿;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种用于X射线设备的防散射栅格(5),包括多个铅薄片(51),所述铅薄片会聚到固定栅格焦点距离(202)处,并且在所述铅薄片之间具有填充材料(52)。在所述栅格(5)的边缘处的薄片(5)的宽度小于在所述栅格(5)的中心处的薄片宽度,和/或在所述栅格(5)的边缘处的填充材料部分(52)的宽度大于在所述栅格(5)的中心处。因此,当从源到图像的距离(SID,203)相对于栅格焦点距离(202)改变时,在所述栅格(5)的边缘处的初级辐射束的透射率并不受到不利影响。
搜索关键词: 具有 均等 间距 宽度 薄片 用于 射线 设备 散射 栅格
【主权项】:
1、一种防散射栅格(5),用于衰减入射到其上的散射辐射(8),所述栅格(5)包括多个采用以间隔关系排列的薄片形式的辐射吸收元件(51),其中,至少某些所述薄片相对于垂直轴倾斜以致于朝向距所述栅格(5)固定距离的平面上的单条线(202)会聚,并且其中,在所述栅格(5)的边缘处的所述薄片(51)的宽度小于在所述栅格(5)的中心处的所述薄片的宽度,和/或其中,在所述栅格(5)的边缘处的薄片(51)对之间的距离大于在所述栅格(5)的中心处的薄片(51)对之间的距离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680046663.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top