[发明专利]冷却元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200680045144.2 申请日: 2006-11-23
公开(公告)号: CN101322003A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: K·赛佩莱;J·科伊托;R·萨里南 申请(专利权)人: 奥图泰有限公司
主分类号: F27D1/12 分类号: F27D1/12;B22D19/00;C21B7/10
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 林振波
地址: 芬兰*** 国省代码: 芬兰;FI
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摘要: 发明涉及在用于金属制造的火法冶金反应器结构中使用的冷却元件(1),该冷却元件包括主要由铜制成的壳体元件(2),该壳体元件具有用于冷却介质循环的通道系统,该通道系统由主要由铜制成的管(3)组成;在形成通道系统的管(3)的外表面上设有涂层(7,A),该涂层的熔点比壳体元件(2)和管(3,B)的材料的熔点低。本发明还涉及一种制造该冷却元件的方法。
搜索关键词: 冷却 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种在用于制造金属的火法冶金反应器结构中使用的冷却元件(1),该冷却元件包括主要由铜制成的壳体元件(2),该壳体元件具有用于冷却介质循环的通道系统,该通道系统由主要由铜制成的管(3)组成,其特征在于,在形成通道系统的管(3)的外表面上设置有涂层(7,A),该涂层的熔点比壳体元件(2)和管(3,B)的材料的熔点更低。
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