[发明专利]光刻系统、传感器和测量方法有效
| 申请号： | 200680040394.7 | 申请日： | 2006-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN101300656A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 彼得·克勒伊特;马尔科·扬·哈科·威兰;埃尔温·斯洛特;蒂斯·弗兰斯·泰佩恩;斯泰恩·威廉·卡雷尔·赫尔曼·斯腾布林克 | 申请（专利权）人： | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;李丙林 |
| 地址： | 荷兰代*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻系统、传感器和方法，其用于测量带电粒子束系统，尤其是直接写入光刻系统的大量的带电粒子束的特性，其中带电粒子束通过使用转换器元件被转换成为光束，使用与所述转换器元件共线设置的诸如二极管、CCD或CMOS装置的光敏检测器阵列来检测所述光束，在其暴露于所述光束以后，从所述检测器中电子地读出产生的信号，利用所述信号来测定一个或多个射束特征的值，从而使用自动化的电子计算器，电子地调整该带电粒子系统，从而基于所述计算的特性值，对所有或多个所述带电粒子束校正超出规定范围的值，各个值对应一个或多个特性。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 传感器 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种测量带电粒子束系统、尤其是直接写入光刻系统的大量带电粒子束的特性的方法，其中-通过利用转换器元件，将所述带电粒子束转换成为光束，-使用与所述转换器元件共线设置的诸如二极管、CCD或CMOS装置的光敏检测器阵列，用于检测所述光束，-在所述检测器曝露于所述光束以后，从所述检测器中电子地读出所产生的信号，-利用所述信号来测定一个或多个射束特性的值，从而使用自动化的电子计算器，以及-电子地调整所述带电粒子系统，从而基于所述计算的特性值，对于各自一个或多个特性，对所有或多个所述带电粒子束的超出规定范围的值进行校正。
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