[发明专利]用于基于参考电平的写入策略优化的设备和方法

摘要

本发明涉及包括用于在记录过程中优化写入策略的装置的光学记录设备。该设备包括用于根据写入策略发射辐射光束的辐射源，提供读出信号的读出单元，用于提供与读出信号相对应的调制位的位探测器，处理单元，用于将调制位分组为调制位序列并且用于将读出信号的每个调制位序列和一个参考电平相关联，该参考电平对应于给定的调制位序列的读出信号的平均幅度。基于参考电平的位置确定前沿和/或后沿的平均跳变移位，并且基于参考电平的相对值在优化过程中优化写入策略中的一个或多个写入参数中的至少一个。可选地，可以从参考电平中确定光学效应的非对称性，以便基于非对称性优化写入策略。

主权项

1、具有优化的写入策略控制的光学记录设备(1)，该设备包括：-用于发射辐射光束的辐射源(6)，以便在光学记录载体(8)上记录光学效应并从光学记录载体上读出光学效应，在根据包含一个或多个写入参数(E、W、B、C)的写入策略(50)的记录环境中发射该辐射光束；-用于读出所记录的效应的读出单元(7)，以便提供读出信号(40)，该读出信号包括从记录载体上的第一区反射的具有第一长度(211)的第一部分(21)，和从记录载体上的第二区反射的具有第二长度(221)的第二部分(22)，其中从第一区到第二区的跳变被标记为前沿(23)，从第二区到第一区的跳变被标记为后沿(24)，-位探测器，用于提供与读出信号(40)相对应的调制位，-处理单元，用于将调制位分组为调制位序列(ak-4...ak)，并且用于将读出信号的每个调制位序列和参考电平(Rx，45)相关联，该参考电平对应于给定的调制位序列的读出信号(40)的平均幅度，其中该设备还包括-用于基于参考电平的值确定记录载体上前沿(27，271)和/或后沿(272)的平均跳变移位的装置，和-用于基于参考电平的值设置写入策略中的一个或多个写入参数中的至少一个的装置。