[发明专利]用于基于参考电平的写入策略优化的设备和方法无效

专利信息
申请号: 200680039219.6 申请日: 2006-10-12
公开(公告)号: CN101297361A 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: R·弗卢特斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G11B7/125 分类号: G11B7/125
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李亚非;谭祐祥
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 基于 参考 电平 写入 策略 优化 设备 方法
【权利要求书】:

1、具有优化的写入策略控制的光学记录设备(1),该设备包括:

-用于发射辐射光束的辐射源(6),以便在光学记录载体(8)上记录光学效应并从光学记录载体上读出光学效应,在根据包含一个或多个写入参数(E、W、B、C)的写入策略(50)的记录环境中发射该辐射光束;

-用于读出所记录的效应的读出单元(7),以便提供读出信号(40),该读出信号包括从记录载体上的第一区反射的具有第一长度(211)的第一部分(21),和从记录载体上的第二区反射的具有第二长度(221)的第二部分(22),其中从第一区到第二区的跳变被标记为前沿(23),从第二区到第一区的跳变被标记为后沿(24),

-位探测器,用于提供与读出信号(40)相对应的调制位,

-处理单元,用于将调制位分组为调制位序列(ak-4...ak),并且用于将读出信号的每个调制位序列和参考电平(Rx,45)相关联,该参考电平对应于给定的调制位序列的读出信号(40)的平均幅度,

其中该设备还包括

-用于基于参考电平的值确定记录载体上前沿(27,271)和/或后沿(272)的平均跳变移位的装置,和

-用于基于参考电平的值设置写入策略中的一个或多个写入参数中的至少一个的装置。

2、根据权利要求1的设备,包括用于从作为光学效应(211、221)的长度的函数的参考电平(Rx,45)中确定光学效应的非对称性的装置,以及用于基于所述所确定的非对称性设置至少一个写入策略(50)参数的装置。

3、根据权利要求1的设备,其中一个或多个写入参数包括功率电平(E、W、B、C)和/或功率电平持续时间。

4、根据权利要求1的设备,其中一个或多个写入参数包括辐射光束中写入脉冲的定时,该定时是与参考时钟相关联所获得的。

5、根据权利要求1的设备,包括用于估算前沿和/或后沿的平均跳变移位的装置,以及用于根据预定的规则优化写入策略(50)中一个或多个写入参数(E、W、B、C)中的至少一个的装置。

6、根据权利要求1的设备,包括可操作地用于在可记录介质上记录一系列光学效应的控制装置,并且其中读出单元可操作地用于在记录过程的第一部分期间读取所述序列的第一部分,并且用于从所述序列的第一部分中获得读出信号,

该写入策略中一个或多个写入参数中的至少一个根据从所述序列的第一部分中获得的读出信号进行设置,

该控制装置进一步可操作地用于在记录过程的第二部分中记录一系列光学效应,同时使用写入策略中的该组参数。

7、用于光学记录设备中的集成电路(IC),该IC适用于根据所测量的读出信号(40)的前沿(23)和/或后沿(24)的平均跳变移位来设置写入策略(50)中的一个或多个写入参数(E、W、B、C),该平均跳变移位是基于参考电平(Rx,45)的值来确定的,该参考电平反映了对于给定的调制位序列(ak-4...ak)的读出信号(40)的幅度。

8、用于控制光学记录设备的计算机可读代码,控制该设备以根据所测量的读出信号(40)的前沿(23)和/或后沿(24)的平均跳变移位来优化写入策略(50)中的一个或多个写入参数(E、W、B、C),该平均跳变移位是基于参考电平(Rx,45)的值来确定的,该参考电平反映了对于给定的调制位序列(ak-4...ak)的读出信号的幅度。

9、用于优化包括一个或多个写入参数(E、W、B、C)的写入策略(50)的方法,该方法包括下列步骤:

-提供读出信号(40),该读出信号包括从记录载体上的第一区反射的具有第一长度(211)的第一部分(21),和从记录载体上的第二区反射的具有第二长度(221)的第二部分(22),其中从第一区到第二区的跳变被标记为前沿(23),从第二区到第一区的跳变被标记为后沿(24),

-提供对应于该读出信号的调制位,该调制位被提供作为调制位序列(ak-4...ak),

-将每个调制位序列和参考电平(Rx,45)相关联,该参考电平反映了对于给定的调制位序列(ak-4...ak)的读出信号(40)的工作平均幅度,

其中基于参考电平的值确定读出信号中前沿(27,271)和/或后沿(272)的平均跳变移位,并且其中基于该平均跳变移位来设置写入策略中的一个或多个写入参数中的至少一个。

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