[发明专利]用于从基片去除金属氧化物的装置和方法无效
| 申请号： | 200680035902.2 | 申请日： | 2006-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN101272881A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 衡石·亚历山大·尹;威廉·蒂;耶兹迪·多尔迪;安德鲁·D·贝利三世 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | B23K10/00 | 分类号： | B23K10/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚;尚志峰 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明披露了一种产生用于从基片去除金属氧化物的等离子的装置。该实施方式包括通电电极组件，它又包括：通电电极、第一介电层、以及被布置在该通电电极和该第一介电层之间的第一金属丝网。该实施方式还包括接地电极组件，它被布置在相对该通电电极组件一侧以形成腔，在该腔中产生该等离子，当该等离子存在于该腔中时，该第一介电层防护该第一金属丝网不受该等离子影响，该腔在一端具有出口以用于提供该等离子来去除该金属氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 金属 氧化物 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种产生用于从基片去除金属氧化物的等离子的装置，包括：通电电极组件，包括通电电极，第一介电层，以及第一金属丝网，其被布置在所述通电电极和所述第一介电层之间；以及接地电极组件，其被布置在所述通电电极组件的对面以形成在其中产生所述等离子的腔，所述第一介电层当所述等离子存在于所述腔中时防护所述第一金属丝网不受所述等离子影响，所述腔在一端具有出口以用于提供所述等离子来去除所述金属氧化物。
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