[发明专利]检查折射元件清洁状态的方法及近场型光学扫描装置无效

专利信息
申请号: 200680033374.7 申请日: 2006-09-08
公开(公告)号: CN101263556A 公开(公告)日: 2008-09-10
发明(设计)人: C·A·弗舒伦 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G11B7/12 分类号: G11B7/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李静岚;谭祐祥
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种检测近场型光学扫描装置的折射元件的光出射面的清洁状态的方法,该方法包含下列步骤:产生近场控制信号,该近场控制信号与从折射元件的光出射面内部反射的光辐射束强度和对应的入射光辐射束强度之间的比率成比例;当折射元件的光出射面远离光盘超过近场距离时,测量近场控制信号;将测得的近场控制信号与预定阈值进行比较;如果测得的近场控制信号超过预定阈值,则将折射元件判断为清洁的。
搜索关键词: 检查 折射 元件 清洁 状态 方法 近场 光学 扫描 装置
【主权项】:
1、一种检测近场型光学扫描装置的折射元件的光出射面清洁状态的方法,该方法包含下列步骤:-产生近场控制信号,该近场控制信号与被从折射元件的光出射面内部反射的光辐射束的强度和对应的入射光辐射束的强度之间的比率成比例;-当折射元件的光出射面远离光盘超过近场距离时,测量近场控制信号;-将测得的近场控制信号与预定阈值进行比较;-如果测得的近场控制信号在预定阈值以上,则判定折射元件为清洁的。
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