[发明专利]真空成膜装置以及真空成膜方法有效
| 申请号： | 200680033242.4 | 申请日： | 2006-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN101263242A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | 梅泽隆男;北爪敦夫;高野博史;尾山总美 | 申请（专利权）人： | 株式会社大岛电机制作所 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 何腾云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在将设置有工件的工件室侧的第二模具与设置有用于进行真空成膜的目标的目标室侧的第一模具进行合模，在上述工件上进行真空成膜的情况下，可缩短真空成膜工序所需的时间、降低成本，在设置了用于进行真空成膜的目标的目标室(7b)侧的成膜用模具(7a)的开口端设置挡板装置(13)，该挡板装置(13)具有开设了连通孔(19a、20a)的第一、第二支撑板(19、20)，和设置在两板(19、20)之间、对上述连通孔(19a、20a)进行开闭的挡板(17)，在上述合模后开放挡板(17)，在成模(2a)后，在脱模前的阶段封闭挡板(17)。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种真空成膜装置，将设置有用于进行真空成膜的目标的目标室侧的第一模具与设置有工件的工件室侧的第二模具合模，在该工件上进行成膜，其特征在于，在第一模具上设置用于开闭目标室的挡板装置。
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