[发明专利]带有具有均质流分布的基体的装置无效

专利信息
申请号: 200680032732.2 申请日: 2006-09-05
公开(公告)号: CN101258405A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: E·萨罗菲姆 申请(专利权)人: 霍夫曼-拉罗奇有限公司
主分类号: G01N33/49 分类号: G01N33/49;B01L3/00;B01D29/01;B01D63/08;B01D69/00;H01M8/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘锴;黄可峻
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 一种包含流体室的装置,该流通腔室包含入口、出口、和位于所述入口和所述出口之间的腔室中的流体可渗透的、可压缩的基体,所述可压缩的基体在较高的压缩度值时具有较高的流阻,和多个从所述入口通向所述出口的且通过所述基体的包含较短长度的流动通道和较长长度的流动通道的流动通道。其中所述基体是在至少一个维度上被压缩,沿着较短长度的流动通道比在较长长度流动通道更强地被压缩。
搜索关键词: 带有 具有 均质流 分布 基体 装置
【主权项】:
1.一种包含流通腔室的流体装置,上述腔室包含:-入口-出口,所述两个口被设计为允许流体在上述腔室中通过流动穿过上述腔室被处理,-位于所述入口和所述出口之间的腔室中的流体可渗透的、可压缩的基体,所述可压缩的基体在较低的压缩度值时与在较高的压缩度值时相比具有较高的流阻,多个从所述入口通向所述出口的通过所述基体的包含较短长度的流动通道和较长长度的流动通道的流动通道,特征在于所述基体是在至少一个维度上不均匀地被压缩,在较短长度的流动通道的至少一部分中比在较长长度流动通道更强地被压缩。
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