[发明专利]用于化学机械抛光的多层抛光垫材料有效
| 申请号： | 200680018565.6 | 申请日： | 2006-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN101184582A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 阿巴内施沃·普拉萨德;迈克尔·莱西 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | B24D3/32 | 分类号： | B24D3/32;B24B37/04;B24D13/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于化学机械抛光的多层抛光垫(10)，其包含多孔抛光层(12)和多孔底层(14)，其中该底层(14)与该抛光层(12)基本上共同扩张，该抛光层(12)不使用粘合剂而与该底层接合；该抛光层(12)具有平均表面粗糙度Ra，其大于该底层的Ra。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 多层 抛光 材料 | ||
【主权项】：
1.一种用于化学机械抛光的多层抛光垫，其包含多孔抛光层和多孔底层；其中该底层与该抛光层基本上共同扩张；该抛光层与该底层直接互连，使得该抛光层与该底层之间的界面无粘合剂；该抛光层具有平均表面粗糙度Ra，其大于该底层的Ra。
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