[发明专利]提高具有光学透明性的三维微成型体的光学稳定性的方法有效
申请号: | 200680015651.1 | 申请日: | 2006-05-11 |
公开(公告)号: | CN101171550A | 公开(公告)日: | 2008-04-30 |
发明(设计)人: | 浅井隆宏;高桥亨 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/32 | 分类号: | G03F7/32;G02B3/00 |
代理公司: | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种提高具有光学透明性的三维微成型体的光学稳定性的方法,为了提高具有光学透明性的三维微成型体的光学稳定性,所述方法使用碳酸钾来作为显影液,所述具有光学透明性的三维微成型体是以光量沿着透明基板的平面发生变化的方式从所述透明基板侧对设置在所述透明基板上的包含感光性树脂组合物的被成型层照射光化学射线,并将照射后的该被成型层的未硬化的部分用显影液加以溶解除去而获得的。利用所述方法,可防止内置在光学构件中的透明三维微成型体的透明性随着时间推移而劣化,也就是可提高具有光学透明性的三维微成型体的光学稳定性。 | ||
搜索关键词: | 提高 具有 光学 透明性 三维 成型 稳定性 方法 | ||
【主权项】:
1.一种提高具有光学透明性的三维微成型体的光学稳定性的方法,所述具有光学透明性的三维微成型体,是以光量沿着透明基板的平面发生变化的方式,从所述透明基板侧对设置在所述透明基板上的包含感光性树脂组合物的被成型层照射光化学射线,并利用显影液溶解除去照射后的所述被成型层的未硬化部分而获得的,所述方法的特征在于:使用碳酸钾溶液来作为所述显影液。
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