[发明专利]用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统无效
| 申请号： | 200680003428.5 | 申请日： | 2006-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN101111850A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 阿扎特·拉伯特;谢尔曼·伯特尼;温塞劳·塞布哈尔 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G06K9/00 | 分类号： | G06K9/00;G02F1/1335;G02F1/135;G21K5/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 齐晓寰 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于确定光刻系统中的空间光调制器(SLM)像素的状态的方法和系统，所述光刻系统被配置用于印刷所需图案。所述方法包括：确定与将要由光刻系统印刷的图案的理想掩模相关联的衍射级；以及然后对SLM像素的状态进行配置以匹配与所需图案有关的已确定衍射级。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基于 全局 优化 无掩模 光刻 光栅 技术 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于确定光刻系统中的空间光调制器SLM像素的状态的方法，所述光刻系统被配置用于印刷所需图案，所述方法包括：确定与将要由光刻系统印刷的图案的理想掩模相关联的衍射级；以及对SLM像素的状态进行配置以匹配与所需图案有关的已确定衍射级。
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