[发明专利]用于处理平版印刷基材和平版印刷印版的材料无效
申请号: | 200680002828.4 | 申请日: | 2006-01-12 |
公开(公告)号: | CN101107135A | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | H·鲍曼;B·斯特勒默尔;U·菲巴;F·冯于尔登费尔德特;T·埃布哈德特;U·达尔曼;D·弗兰克 | 申请(专利权)人: | 柯达彩色绘图有限责任公司 |
主分类号: | B41N3/00 | 分类号: | B41N3/00;B41C1/10;C08J5/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 段晓玲;邹雪梅 |
地址: | 德国奥*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 膦酰基取代的硅氧烷,适宜用作平版印刷基材中的中间层材料和用于后处理显影的平版印刷印版,其通过右述(a)和(b)反应获得(a)通式(I)的第一有机硅化合物和(b)通式(II)的第二有机硅化合物。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 平版印刷 基材 材料 | ||
【主权项】:
1.膦酰基取代的硅氧烷,可通过下述(a)和(b)反应获得:(a)通式(I)的第一有机硅化合物
其中R1选自氢原子、羟基、直链或支链的C1-C20烷基、直链或支链的C2-C20链烯基、直链或支链的C1-C20烷氧基、直链或支链的C2-C20炔烃基、芳基、芳烷基、烷芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔烃基、炔烃基芳基、酰氧基和基团-CHR6-PO3H2,R2和R3独立地选自氢原子、直链或支链的C1-C20烷基、直链或支链的C2-C20链烯基、直链或支链的C2-C20炔烃基、芳基、芳烷基、烷芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔烃基和炔烃基芳基,R4选自氢原子、直链或支链的C1-C20烷基、直链或支链的C2-C20链烯基、直链或支链的C2-C20炔烃基、芳基、芳烷基、烷芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔烃基、炔烃基芳基和基团-CHR6-PO3H2,R5选自氢原子、直链或支链的C1-C20烷基、直链或支链的C2-C20链烯基、直链或支链的C2-C20炔烃基、芳基、芳烷基、烷芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔烃基、炔烃基芳基和基团-CHR6-PO3H2,Z表示-(CR6R7)x-或亚芳基,R6和R7独立地选自氢原子、直链或支链的C1-C6烷基、直链或支链的C2-C6链烯基、直链或支链的C2-C6炔烃基、芳基、芳烷基、烷芳基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔烃基和炔烃基芳基,n为平均值且具有从1至200的值,和x为从1至100的整数;和(b)通式(II)的第二有机硅化合物
其中Z1表示间隔基或单键,R8、R9和R10独立地选自H、OH、烷基、链烯基、炔烃基、芳基、烷芳基、芳烷基、芳基链烯基、链烯基芳基、芳基炔烃基、炔烃基芳基、酰氧基和烷氧基,条件是基团R8、R9和R10中的至少一个为烷氧基、酰氧基或OH基,和
表示一个或多个选自自由基可聚合性基团、非离子亲水性基团、碱性基及其组合的官能团。
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