[发明专利]六氯化二硅的精制方法和高纯度六氯化二硅有效
| 申请号： | 200680002738.5 | 申请日： | 2006-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN101107196A | 公开（公告）日： | 2008-01-16 |
| 发明（设计）人： | 石川幸二;铃木浩;木全良典 | 申请（专利权）人： | 东亚合成株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/107 | 分类号： | C01B33/107 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供从含有硅烷醇作为杂质的六氯化二硅原料中高效地除去硅烷醇，得到高纯度的六氯化二硅的方法。本发明的六氯化二硅的精制方法具有使含有六氯化二硅和作为杂质的硅烷醇的六氯化二硅原料与活性炭等吸附材料接触，将硅烷醇除去的工序。可以还具有进行蒸馏的工序。上述各工序优选在惰性气体气氛下进行。 | ||
| 搜索关键词： | 氯化 精制 方法 纯度 | ||
【主权项】：
1.六氯化二硅的精制方法，其特征在于：具有使含有六氯化二硅和作为杂质的硅烷醇的六氯化二硅原料与吸附材料接触，将硅烷醇除去的接触工序。
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