[实用新型]双视角扫描辐射成像装置无效

专利信息
申请号: 200620167700.0 申请日: 2006-12-28
公开(公告)号: CN201043955Y 公开(公告)日: 2008-04-02
发明(设计)人: 谢亚丽;苗齐田;李元景;彭华;曹学光;温宏胜;刘耀红;宋全伟;顾建平;林津;杨宏波;罗平安 申请(专利权)人: 同方威视技术股份有限公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 练光东
地址: 100084北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及大型物体辐射检查系统的扫描辐射成像技术领域,本实用新型的双视角扫描辐射成像装置包括辐射源、束流控制器、两列互连的探测器阵列、与各自探测器阵列连接的图像获取系统以及计算机处理系统。本实用新型可以显示分别由探测器阵列所检测的透视图像,也可以显示由两者利用视差原理重建出不同深度的透视图像,方便、快捷、检验速度快,以低成本的方式实现了对不同深度物体的识别。
搜索关键词: 视角 扫描 辐射 成像 装置
【主权项】:
1.一种双视角扫描辐射成像装置,包括辐射源(1)、探测器阵列、图像获取系统和计算机处理系统,其特征在于该装置还包括束流控制器(2),有两列探测器阵列(4,5)及与各自探测器阵列连接的图像获取系统。
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