[实用新型]一种用于光学辅助镀膜机中离子源的阳极无效
| 申请号： | 200620123907.8 | 申请日： | 2006-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN200949112Y | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | 杨松涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院空间科学与应用研究中心 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;H01J27/02;H01J37/04;H01J37/08 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高存秀 |
| 地址： | 100084北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于光学辅助镀膜机中离子源的阳极，该阳极包括一不锈钢材料制成的圆柱状阳极本体，在阳极本体的中心开有锥形通孔，锥形通孔的表面为阳极放电工作面；其特征在于，在所述阳极本体的放电工作面上，涂敷一层厚度为0.2－0.5mm的金属钨。本实用新型的阳极放电工作面不容易被氧化而绝缘，从而可以长时间地连续工作，其连续工作周期比普通镍铬不锈钢表面阳极连续工作周期长3－5倍；并且在其表面上形成的氧化物层不牢固不致密，易于清理维护。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光学 辅助 镀膜 离子源 阳极 | ||
【主权项】：
1.一种用于光学辅助镀膜机中离子源的阳极，该阳极包括一不锈钢材料制成的圆柱状阳极本体，在阳极本体的中心开有锥形通孔，锥形通孔的表面为阳极放电工作面；其特征在于，在所述阳极本体的放电工作面上，涂敷一层厚度为0.2-0.5mm的金属钨。
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