[实用新型]真空塗覆蒸发系统结构改进装置无效

专利信息
申请号: 200620040816.8 申请日: 2006-04-05
公开(公告)号: CN2900551Y 公开(公告)日: 2007-05-16
发明(设计)人: 唐雪雄 申请(专利权)人: 上海泰雷兹电子管有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 上海东亚专利商标代理有限公司 代理人: 童素珠
地址: 200444上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种涉及闪烁体真空塗覆蒸发系统结构的改进装置,尤指一种用于材料合成与加工的新技术,是表面工程技术领域的重要组成部分的真空塗覆蒸发系统结构改进装置。本实用新型由钟罩、工件、支架底座、蒸发源及真空系统等部件组成,在钟罩内设有两组相互平行的对称结构,其自上往下依次由支架、工件、蒸发源、托架、底座和真空管道等组成。主要解决如何在不影响真空系统前提下,提高塗覆效率,塗层均匀且受控等技术问题。本实用新型的优点是:具有调节方便,受热均匀,速率一致,增加了工位,提高了产量,降低了成本;提高了产品的合格率,同时真空度的提高,又增强了涂层的附着强度,提高了产品质量。
搜索关键词: 真空 蒸发 系统 结构 改进 装置
【主权项】:
1、一种真空塗覆蒸发系统结构改进装置,该装置有钟罩、工件、支架 底座、蒸发源及真空系统,其特征在于:在钟罩(1)内设有两组相互平行的对称结构,其自上往下依次由支架(2)、工件(3)、蒸发源(4)、托架(5)、底座(6)和真空管道(7)组成,支架(2)与工件(3)之间为固定连接,蒸发源(4)与托架(5)之间为固定连接,托架(5)与底座(6)之间为固定连接,钟罩(1)与底座(6)之间通过橡皮为真空密封固定连接,底座(6)与真空管道(7)之间为真空密封固定连接,且真空电机直接带动旋转机构。
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