[发明专利]宽频带抗反射膜无效
| 申请号： | 200610169979.0 | 申请日： | 2006-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN1991410A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 山口晃司 | 申请（专利权）人： | 爱普生拓优科梦株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/11;G02B5/22 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰;赵冬梅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种宽频带抗反射膜，所述宽频带抗反射膜谋求抗反射膜的宽频带化，同时在量产光学元件时使得抗反射膜的透射率特性的偏移得到降低。本发明的宽频带抗反射膜6具有在基板7上层积有7层薄膜的结构。作为构成薄膜的薄膜材料，采用对基板7的附着性强的已知的MgF2作为第一层薄膜8的材料而进行成膜。进而，接着，对于宽频带抗反射膜6中的第二薄膜9到第七薄膜14，是从第一薄膜8的表面开始顺次以采用高折射率材料的薄膜和采用的薄膜交替地层积6层而进行成膜的，所述高折射率材料可为H4(La和TiO2的混合物)，所述低折射率材料为MgF2。 | ||
| 搜索关键词： | 宽频 反射 | ||
【主权项】：
1.一种宽频带抗反射膜，所述宽频带抗反射膜成膜在光学元件的入射面或者发射面的至少一个面上，以降低入射或者发射光线的反射光量，所述宽频带抗反射膜的特征在于，其具有将7层薄膜层积而成的结构。
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