[发明专利]利用多次曝光和多种曝光类型的光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200610169373.7 | 申请日： | 2006-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1987659A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | K·Z·特罗斯特;J·J·M·贝塞尔曼斯;A·J·布利克;J·S·格林奈奇 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王小衡;张志醒 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 利用相对低分辨率曝光修整其中例如重复图形的相对高分辨率曝光的光刻设备和方法。因此，提供了在图形中将形成高分辨率图形和提供柔韧性之间的折衷。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 多次 曝光 多种 类型 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：在衬底上曝光图形的至少一个单独可控元件阵列，配置其以执行一个或多个第一类型的曝光和一个或多个第二类型的曝光，其中，对于第一类型的曝光，辐射束通过至少一个单独可控元件阵列调制并投射到衬底上，以便将重复图形投射到衬底上，以及其中，对于第二类型的曝光，辐射束通过至少一个单独可控元件阵列调制并投射到衬底上，以便在衬底上对应于单独可控元件的曝光部分的尺寸用第二类型的曝光比用于第一类型的曝光大。
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