[发明专利]用于确定粒子-光学透镜的像差函数的像差系数的方法有效
申请号: | 200610168858.4 | 申请日: | 2006-12-06 |
公开(公告)号: | CN1979751A | 公开(公告)日: | 2007-06-13 |
发明(设计)人: | C·科克;M·J·V·D·詹德;B·里杰 | 申请(专利权)人: | FEI公司 |
主分类号: | H01J37/153 | 分类号: | H01J37/153;H01J37/21;H01J37/28 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张亚宁;张志醒 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 粒子-光学设备的透镜(如物镜)具有像差这一缺点。正如数十年来众所周知的,龙基图可用来确定粒子-光学透镜的这些像差。这样的方法依赖于比如在一个或一组龙基图中局部放大率的基础上像差函数的二阶导数的确定。取决于二阶导数,这些方法的数学只允许龙基图之间的(无穷)小的移位。然而,这意味着比如记录龙基图的相机的空间量化噪音导致较大的误差。这些冲突需求限制了精度并且因此限制了已知方法的有效性。本发明描述了一组算法,所述的算法产生改进的方法以此利用一组龙基图量化透镜像差系数。 | ||
搜索关键词: | 用于 确定 粒子 光学 透镜 函数 系数 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于确定粒子-光学透镜的像差函数的像差系数的方法,所述方法包含:·向无定形样本(110)提供采样细节(111,113),·提供粒子射束(103),·提供透镜(101)用于使所述射束在所述样本附近聚焦,·记录表示多个样本细节(112,114)的图像的第一透射龙基图,·以已知量改变射束参数,·记录表示近似相同样本细节的图像的第二透射龙基图,其特征在于,·作为所述透镜的图像平面中位置函数的像差函数的一阶导数被定义为具有要确定的系数的多项式函数,·对于多个样本细节,在每个龙基图中确定所述样本细节的图像的位置,给出多个位置对,·利用这些位置对并且利用算法,所述算法取决于所改变的射束参数的类型,通过解一组方程来确定所述多项式函数的系数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于FEI公司,未经FEI公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610168858.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。