[发明专利]水质评价方法、用该方法的超纯水评价装置及制造系统有效

专利信息
申请号: 200610168085.X 申请日: 2006-12-18
公开(公告)号: CN1987457A 公开(公告)日: 2007-06-27
发明(设计)人: 小林秀树;森田博志 申请(专利权)人: 栗田工业株式会社
主分类号: G01N33/18 分类号: G01N33/18;H01L21/66
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 苗堃;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供水质评价方法、使用该水质评价方法的超纯水评价装置以及备有该超纯水评价装置的超纯水制造系统,所述水质评价方法以对硅物质的影响度作为指标、简易且高灵敏度地对作为制造半导体或液晶用的洗涤水而使用的超纯水的腐蚀性进行评价。使超纯水制造装置制造的超纯水等试样水与硅物质接触,测定与该硅物质接触后的试样水的溶解氢浓度,算出相对于与该硅物质接触前的上述试样水的溶解氢浓度的提高部分,基于该溶解氢浓度的提高部分,判断所述试样水是否具有腐蚀硅表面的性质。
搜索关键词: 水质 评价 方法 超纯水 装置 制造 系统
【主权项】:
1.一种水质评价方法,其特征在于,使试样水与硅物质接触,测定与该硅物质接触后的试样水中含有的溶解氢浓度,基于通过与该硅物质接触而提高的所述溶解氢浓度,对试样水的水质进行评价。
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