[发明专利]光学透镜及其制造方法无效
| 申请号： | 200610154215.4 | 申请日： | 2006-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN1940602A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | 小谷恭子 | 申请（专利权）人： | 冲电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B6/124 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王以平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学透镜及其制造方法，薄硅构成的透镜部分在分离后，能够单独保持。本发明的光学透镜的制造方法特征在于，包括：透镜面形成工序，在SOI层(112)、SiO2层(114)和Si层(116)构成的基板的SOI层(112)表面上形成透镜面(118)；透镜区域形成工序，只保留包括透镜面(118)及其边缘部(120)的透镜区域中的SOI层(112)，将透镜区域以外的区域的SOI层(112)除去，直至露出SiO2层(114)；透镜保持部形成工序，该透镜保持部(122)用于保持透镜区域，从基板的背面除去透镜保持部(122)以外的区域的Si层(116)，直至露出SiO2层(114)。为了保持薄的透镜，形成透镜保持部(122)，由此能够容易安装在模块等上。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 透镜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学透镜的制造方法，其特征在于，包括：透镜面形成工序，在由第1层、第2层和第3层构成的基板的第1层表面上形成透镜面；以及透镜保持部形成工序，从上述基板的背面除去透镜保持部以外的区域的上述第3层，直至露出上述第2层，以形成保持包括上述透镜面及其边缘部的透镜区域的上述透镜保持部。
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