[发明专利]荧光X射线分析装置及该装置中使用的程序无效

专利信息
申请号: 200610152815.7 申请日: 2006-10-18
公开(公告)号: CN1952652A 公开(公告)日: 2007-04-25
发明(设计)人: 片冈由行;河野久征;仓冈正次;庄司孝;山田康治郎 申请(专利权)人: 理学电机工业株式会社
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种荧光X射线分析装置及该装置中使用的程序。提供可以由简单的结构定量分析6价铬的荧光X射线分析装置等。一种扫描型荧光X射线分析装置,包括X射线源、发散狭缝、分光元件、受光狭缝、检测器、使分光元件与受光狭缝和检测器连动的连动机构、以及根据检测器的测定结果进行定量分析的定量分析机构。定量分析机构根据使Cr-Kα射线中强度最大的峰值分光角对应于6价铬含有率对全部铬含有率之比的变化而计算6价铬的含有率。包括分辨力不同的多个检测机构,其作为发散狭缝、分光元件、受光狭缝和检测器的组合,并且当检测出峰值分光角的变化时,选择比在求出全部铬含有率或强度时选择的检测机构分辨力更高的检测机构。
搜索关键词: 荧光 射线 分析 装置 使用 程序
【主权项】:
1.一种荧光X射线分析装置,包括对样品照射一次X射线的X射线源;使从样品发生的荧光X射线通过的发散狭缝;将通过该发散狭缝的荧光X射线分光的分光元件;使由该分光元件分光的荧光X射线通过的受光狭缝;测定通过该受光狭缝的荧光X射线的强度的检测器;连动机构,该连动机构使所述分光元件、受光狭缝和检测器连动,以使一边改变所述分光元件中的分光角、改变被分光的荧光X射线的波长,一边将该被分光的荧光X射线射入所述受光狭缝和检测器;根据所述检测器的测定结果进行定量分析的定量分析机构;其特征在于,所述定量分析机构根据使Cr-Kα射线中强度最大的峰值分光角变化的方式计算6价铬的含有率或附着量,该变化对应于6价铬的含有率或强度与全部铬含有率或强度之比,通过择一地包括多个所述发散狭缝、分光元件和受光狭缝之中的至少任何一个,作为所述发散狭缝、分光元件、受光狭缝和检测器的组合,构成分辨力不同的多个检测机构,当检测所述峰值分光角的变化时,选择比在求出全部铬含有率或强度时选择的检测机构分辨力更高的检测机构。
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