[发明专利]浸润式微影方法及系统有效
| 申请号： | 200610152415.6 | 申请日： | 2006-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1949082A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | 张庆裕;林进祥;林本坚;鲁定中 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明有关于一种浸润式微影方法及系统，该一种浸润式微影方法，首先，提供一个涂布光阻层的基板；之后，在基板和微影系统的物镜间配置导电浸润流体；最后，使用辐射光经由导电浸润流体，曝光光阻层。该一种浸润式微影系统，其包括：一物镜模组具有一前表面；一载座位于该物镜模组的该前表面之下；一流体定位模组，该流体定位模组使一流体至少部分填满该前表面和该载座上一基板间的空间；以及一放电元件，用以降低静电放电的程度。本发明的浸润式微影系统和方法中使用具有导电性的流体作为浸润流体，有效去除了曝光制程中积聚的静电荷。 | ||
| 搜索关键词： | 浸润 式微 方法 系统 | ||
【主权项】：
1、一种浸润式微影方法，其特征在于其包括以下步骤：提供一基板，该基板上涂布一光阻层；配置一导电浸润流体在该基板和一微影系统的一物镜间；使用一辐射光曝光该光阻层，该辐射光通过该物镜和该导电浸润流体，照射于该光阻层上。
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