[发明专利]用于涂敷金属的方法有效
| 申请号： | 200610149223.X | 申请日： | 2006-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN1966770A | 公开（公告）日： | 2007-05-23 |
| 发明（设计）人： | D·A·诺沃克;P·S·迪马斯乔;D·V·布茨 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C30/00;C23C4/06;C23D3/00;C23D5/00;H01J37/317 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了用于涂敷金属基质(12)的方法、系统和由此制成的制品。在一个实施例中，涂敷金属基质(12)的方法包括：将金属粘合涂层(14)布置在金属基质(12)上，用反极性高频装置在大于或等于约2.5kHz的频率下产生离子，用离子将表面(18)粗糙化到大于或等于约5μm的后续平均表面粗糙度，并将陶瓷涂层(16)布置在金属粘合涂层表面(18)上。金属粘合涂层(14)具有初始平均表面粗糙度小于或等于约1μm的表面(18)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于涂敷金属基质的方法，包括：将金属粘合涂层(14)布置在金属基质(12)上，其中所述金属粘合涂层(14)具有初始平均表面粗糙度小于或等于约1μm的表面(18)；用反极性高频装置在大于或等于约2.5kHz的频率下产生离子；用所述离子将所述表面(18)粗糙化到大于或等于约5μm的后续平均表面粗糙度；以及将陶瓷涂层(16)布置在所述金属粘合涂层表面(18)上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司，未经通用电气公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610149223.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
