[发明专利]具有晒版器件的激光诱导热成像装置有效
申请号: | 200610146554.8 | 申请日: | 2006-11-15 |
公开(公告)号: | CN1966279A | 公开(公告)日: | 2007-05-23 |
发明(设计)人: | 鲁硕原;金茂显;成镇旭;李相奉;金善浩 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | B41M5/382 | 分类号: | B41M5/382;H01L51/00;H01L51/56;H01L21/00 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩明星;韩素云 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种激光诱导热成像(LITI)装置及使用该LITI装置制造电子器件的方法。LITI装置包括腔体、基底支撑件、晒版器件和激光源或振荡器。LITI装置将可转印层从膜供体器件转印到中间电子器件的表面上。LITI装置利用磁力来提供可转印层和中间器件表面之间的紧密接触。在LITI装置的彼此分隔地置于可转印层和中间器件表面之间的两个组件中形成的磁性材料产生磁力。磁体或磁性材料形成在下面的LITI装置的两个组件中:1)中间器件和膜供体器件;2)中间器件和晒版器件;3)基底支撑件和膜供体器件;4)基底支撑件和晒版器件。 | ||
搜索关键词: | 具有 器件 激光 诱导 成像 装置 | ||
【主权项】:
1、一种用于激光诱导热成像的装置,包括:基底支撑件,构造成支撑中间电子器件和膜供体器件;激光源;晒版器件,位于所述基底支撑件和所述激光源之间,所述晒版器件在第一位置和第二位置之间相对于所述基底支撑件是可移动的,所述第一位置距离所述基底支撑件第一距离,所述第二位置距离所述基底支撑件第二距离,所述第二距离大于所述第一距离,所述晒版器件被构造成在所述第一位置附近将所述膜供体器件压向所述中间器件,所述晒版器件包含从由永磁体和电磁体组成的组中选择的至少一种磁性材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610146554.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。