[发明专利]形成图案的方法以及使用其制造液晶显示器件的方法有效
| 申请号： | 200610145259.0 | 申请日： | 2006-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN1991590A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 李惠宣;吴载映 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26;G02F1/1333;G02F1/1362;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形成图案的方法以及使用其制造LCD器件的方法，其中在不使用光致抗蚀剂剥离剂的情况下从基板上移除光致抗蚀剂层，从而可以以较低的制造成本形成图案，该方法包括在基板上连续形成图案材料层、转移材料层和光致抗蚀剂层；通过使用掩模的曝光和显影而对该光致抗蚀剂层构图；通过使用构图的光致抗蚀剂层作为掩模选择性地蚀刻转移材料层和图案材料层；和通过施加光的提升方法移除转移材料层和构图的光致抗蚀剂层。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 图案 方法 以及 使用 制造 液晶显示 器件 | ||
【主权项】：
1.一种形成图案的方法，包括：在基板上连续形成图案材料层、转移材料层和光致抗蚀剂层；通过使用掩模的曝光和显影而对光致抗蚀剂层构图；通过使用构图的光致抗蚀剂层作为掩模选择性地蚀刻转移材料层和图案材料层；和通过施加光的提升方法移除转移材料层和构图的光致抗蚀剂层。
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