[发明专利]超临界流体清洗方法及其系统无效
| 申请号： | 200610144892.8 | 申请日： | 2006-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN101190438A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 金光祖;陈秋美;张佩琳;陈宜晶 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B11/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种超临界流体清洗方法及其系统，是配合超临界流体清洗系统，以超临界流体清洁具有表面微结构的材料表面，再以超临界流体进行元件浸泡、清洗与干燥的步骤，元件表面可包含纳米孔洞或高深宽比微结构，以此超临界流体清洗方法可移除元件表面的不纯物质或水气。 | ||
| 搜索关键词： | 临界 流体 清洗 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1.一种超临界流体清洗方法，用以移除置于一处理槽的一元件表面的不纯物质，其特征在于，其步骤包含：通入一第一超临界流体于该处理槽以清洁该元件表面；排放该第一超临界流体；通入一第二超临界流体于该处理槽以浸泡该元件；使该第二超临界流体动态循环以冲洗该元件；及干燥该元件。
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