[发明专利]具有改进的密封结构的显影设备无效
| 申请号: | 200610137135.8 | 申请日: | 2006-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN1979354A | 公开(公告)日: | 2007-06-13 |
| 发明(设计)人: | 李承润;方正勋 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
| 主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 曲莹;马高平 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | 本发明公开了一种具有改进的密封结构的显影设备,密封单元密封存储显影剂的壳体内壁和刮刀之间的间隙,该刮刀控制在显影辊上附着的显影剂的厚度。该显影设备的密封单元包括第一密封元件,其被插入到壳体内壁和刮刀端部之间的间隙内;第二密封元件,其被设置在刮刀上以接触第一密封元件;和挤压元件,其挤压第一和第二密封元件以避免第一和第二密封元件之间形成间隙。因此,可有效地封闭刮刀和壳体内壁之间的间隙,而不损坏显影辊,且稳定和有效地实施显影过程。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 改进 密封 结构 显影 设备 | ||
【主权项】:
1、一种显影设备,包括:存储显影剂的壳体;利用壳体内的显影剂显影静电潜像的显影辊;用于使显影辊上的显影剂保持基本恒定厚度的刮刀;防止显影剂通过刮刀和壳体内壁之间的间隙泄漏的密封单元,所述密封单元包括:设置在壳体内壁与刮刀端部之间的间隙内的第一密封元件;设置在刮刀上且接触第一密封元件的第二密封元件;和挤压元件,所述挤压元件挤压第一和第二密封元件,以便基本上封闭第一和第二密封元件之间的间隙。
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