[发明专利]磁头制造方法及磁头无效
| 申请号： | 200610136670.1 | 申请日： | 2006-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN101038812A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | 三宅裕子;松冈正昭 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | H01F10/16 | 分类号： | H01F10/16;G11B5/31 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟;迟军 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁头制造方法及磁头。该磁头制造方法能够稳定形成写入头的磁极的经镀覆的磁膜的淀积速度。在该方法所制造的磁头中，写入头的磁极由磁膜制成，该磁头制造方法包括如下步骤：在工件的表面上形成由Ru制成的种子层；在该种子层的表面上形成盖层，以便稳定该磁膜的淀积速度；以及，通过电镀形成磁膜，并将该种子层和该盖层用作用于进行所述电镀的馈电层。 | ||
| 搜索关键词： | 磁头 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种磁头制造方法，在该磁头中写入头的磁极由磁膜构成，该磁头制造方法包括如下步骤：在工件的表面上形成由Ru制成的种子层；在所述种子层的表面上形成盖层，以稳定所述磁膜的淀积速度；以及通过电镀形成所述磁膜，其中所述种子层和所述盖层用作用于进行所述电镀的馈电层。
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