[发明专利]微影系统及其制程有效
| 申请号： | 200610127750.0 | 申请日： | 2006-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN101086624A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | 吴宗显;杨大弘;卢志远 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种微影系统及其制程，该微影制程，其包括：接收具有感光层的基底；提供能够使所述感光层的一部分曝光的光源；和提供能够定义要转移到感光层的至少一个图案的光罩。具体地说，基底在感光层上或上方具有上表面，且光罩在其第一表面处接收来自光源的电磁波，并从其第二表面产生多个电磁成分。微影制程还可包括：提供透镜，其在透镜的下表面处提供平整表面，用于将图案转移到感光层；和调节透镜的平整表面与基底的上表面之间的距离，以控制投射到感光层上的电磁成分的数目和量。 | ||
| 搜索关键词： | 系统 及其 | ||
【主权项】：
1、一种微影制程，其特征在于其包括：接收具有一感光层的一基底；提供一光源，能够使该感光层的一部分曝光；提供一光罩，能够定义出要转移到该感光层的至少一个图案，其中该光罩在其第一表面处接收来自所述光源的电磁波，且从其第二表面产生多个电磁成分；提供一透镜，用于将该图案转移到该感光层，且该透镜在其下表面处提供平整表面；以及调节该透镜的平整表面与该基底的上表面之间的距离，以控制投射到该感光层上的该些电磁成分的数目和量。
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