[发明专利]光罩回收处理方法

摘要

本发明涉及一种去除金属铬膜后的光罩(Photo Mask)回收处理方法，其处理程序是将回收后含有金属铬膜的光罩经过溶蚀去除光罩上的金属铬膜，并将光罩进行洗净烘干，再行检测其光罩表面状态，研磨并去除光罩表面可能残留的化学成份及异物，之后将经过研磨后的光罩洗净烘干，最后检验符合标准。经过这些工艺步骤后，可使回收后的光罩再生成为具利用价值的产品。

主权项

1.一种光罩回收处理方法，其特征在于，其步骤为：步骤一、溶蚀：1-1将含金属铬膜的光罩置于溶蚀槽中浸泡处理，溶蚀槽内含溶蚀液，令溶蚀液加热到摄氏20～60℃后，光罩完全浸泡于溶蚀槽中10～20分钟；1-2再将光罩浸泡于另一纯水槽中，进行约1分钟纯水浸泡清洗；1-3将光罩浸泡于另一含中和液的中和槽中，并令该中和液加热到摄氏40～50℃后，将光罩浸泡于中和槽中约3分钟；1-4最后将光罩浸泡于另一纯水槽中，进行约1分钟纯水浸泡清洗；步骤二、洗净、烘干：将经过溶蚀后的光罩洗净烘干；步骤三、工艺检验：检测光罩的表面状态；步骤四、研磨：去除光罩表面可能残留的化学成份及异物；步骤五、洗净、烘干：将经过研磨后的光罩洗净烘干；步骤六、工艺检验：若检测未符合规定则再次经过步骤四、步骤五的流程；检验合格则为成品。