[发明专利]建立光学近接修正模型的方法有效

专利信息
申请号: 200610118821.0 申请日: 2006-11-28
公开(公告)号: CN101192009A 公开(公告)日: 2008-06-04
发明(设计)人: 刘庆炜;魏芳 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种建立光学近接修正模型的方法,包括下列步骤:从工艺中采集光学近接修正数据至数据库中;确定初始值X0、结束值Xn和固定步长h;根据初始值X0计算初始值斜率;根据初始值斜率和固定步长h得出初始优化步长Y0;根据初始值X0和初始优化步长Y0得出第一相加值X1;重复上述步骤,计算得出第二相加值X2、第三相加值X3……至结束值Xn;将初始值X0、第一相加值X1、第二相加值X2、第三相加值X3、……第n-1相加值和结束值Xn进行拟合。经过上述步骤,由于步长值可根据计算出的斜率来调节,这样会实现调节步数减少,模拟时间变短。
搜索关键词: 建立 光学 修正 模型 方法
【主权项】:
1.一种建立光学近接修正模型的方法,其特征在于,包括下列步骤:从工艺中采集光学近接修正数据至数据库中;确定初始值X0、结束值XN和固定步长h;根据初始值X0计算初始值斜率FX|X=X0; 根据初始值斜率FX|X=X0和固定步长h得出初始优化步长Y0;根据初始值X0和初始优化步长Y0得出第一相加值X1;重复上述步骤,计算得出第二相加值X2、第三相加值X3、......第n-1相加值至结束值Xn;将初始值X0、第一相加值X1、第二相加值X2、第三相加值X3、......第n-1相加值和结束值Xn进行拟合。
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