[发明专利]建立光学近接修正模型的方法有效
申请号: | 200610118821.0 | 申请日: | 2006-11-28 |
公开(公告)号: | CN101192009A | 公开(公告)日: | 2008-06-04 |
发明(设计)人: | 刘庆炜;魏芳 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 201203*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
一种建立光学近接修正模型的方法,包括下列步骤:从工艺中采集光学近接修正数据至数据库中;确定初始值X0、结束值Xn和固定步长h;根据初始值X0计算初始值斜率 |
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搜索关键词: | 建立 光学 修正 模型 方法 | ||
【主权项】:
1.一种建立光学近接修正模型的方法,其特征在于,包括下列步骤:从工艺中采集光学近接修正数据至数据库中;确定初始值X0、结束值XN和固定步长h;根据初始值X0计算初始值斜率 根据初始值斜率和固定步长h得出初始优化步长Y0;根据初始值X0和初始优化步长Y0得出第一相加值X1;重复上述步骤,计算得出第二相加值X2、第三相加值X3、......第n-1相加值至结束值Xn;将初始值X0、第一相加值X1、第二相加值X2、第三相加值X3、......第n-1相加值和结束值Xn进行拟合。
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