[发明专利]用于消除散射辐射影响的虚拟滤线栅成像方法及其系统有效
| 申请号： | 200610114533.8 | 申请日： | 2006-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN101109718A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 李运祥;曹红光 | 申请（专利权）人： | 北京国药恒瑞美联信息技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G06T5/00 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈曦 |
| 地址： | 100085北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种能够消除散射辐射影响的虚拟滤线栅成像方法及成像系统。该方法主要用在高能射线成像中，首先对到达探测器面的散射线不做滤过，全部采样散射线和直射射线数据，然后对采样后的数据进行散射线分量的分离和抑制，达到消除所成影像中散射线分量的目的。具体包括如下步骤：(1)对于数字图像按频率分解成从高到低的多频段图像；(2)对低频段图像进行去散射处理；(3)对高频段图像进行对比度增强处理；(4)将步骤(2)和步骤(3)处理后的每一频段图像进行合并，形成输出图像。实验证明，在数字X射线成像中，本发明能明显地消除散射线影响，同时可以大幅度降低射线剂量，在得到相同图像亮度的情况下，是普通滤线栅所需剂量的三分之一。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 消除 散射 辐射 影响 虚拟 滤线栅 成像 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于消除散射辐射影响的虚拟滤线栅成像方法，用在高能射线成像中，首先对到达探测器面的散射线不做滤过，全部采样散射线和直射射线数据，然后对采样后的数据进行散射线分量的分离和抑制，其特征在于包括如下步骤：(1)对于高能射线所产生的数字图像按频率分解成从高到低的多频段图像；(2)对于其中的低频段图像，直接进行去散射处理；(3)对于其中的高频段图像进行对比度增强处理；(4)将步骤(2)和步骤(3)处理后的各频段图像进行合并，形成输出图像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京国药恒瑞美联信息技术有限公司，未经北京国药恒瑞美联信息技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610114533.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
