[发明专利]一种反应腔室压力控制的装置和方法有效
| 申请号： | 200610114244.8 | 申请日： | 2006-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN101173357A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 张京华 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑立明 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种反应腔室压力控制的装置和方法。本发明主要包括：在反应腔室固有的净化管路也就是进气管路上增加一个压力控制器UPC，通过UPC控制单元自动控制UPC的气流压力来控制反应腔室氮气压力，达到净化反应腔室的作用。本发明使用户根据不同的设备设置具体的反应腔室压力值，使系统自动控制反应腔室压力，从而可以使反应腔室中的颗粒不会附着在反应腔室内壁，实现可以在较短的时间内，自动调整反应腔室压力，达到净化反应腔室的效果。同时本发明具有容易设计、成本低的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反应 压力 控制 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种反应腔室压力控制的装置，其特征在于，包括：压力控制器UPC和UPC控制单元，其中：所述的UPC连接于反应腔室的进气管路上，通过控制进入反应腔室的气体的气动参数来控制反应腔室内的气体压力；所述的UPC控制单元与所述的UPC连接，用于根据采集的反应腔室内的气体压力参数来确定针对UPC的控制参数，并通过UPC控制反应腔室内气体压力。
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