[发明专利]垂直磁记录介质和磁存储装置无效

专利信息
申请号: 200610106008.1 申请日: 2006-07-19
公开(公告)号: CN101046978A 公开(公告)日: 2007-10-03
发明(设计)人: 安东尼·阿扬;杉本利夫;稻村良作;金子大树 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: G11B5/66 分类号: G11B5/66;G11B5/667;G11B5/738;H01F1/01
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 张龙哺
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开一种垂直磁记录介质,其能够防止发生广域磁道擦除现象并能够进行高密度记录。该垂直磁记录介质包括:衬底;软磁衬叠层结构,包括依次层叠在该衬底上的第一磁层、第一非磁性耦合层、第二磁层;中间层,位于该软磁衬叠层结构上,并由非磁性材料形成;以及记录层,位于该中间层上,该记录层具有垂直于该衬底表面的易磁化轴。该第一磁层和该第二磁层由多晶软磁材料形成,该第一磁层和该第二磁层的表面内均具有易磁化轴,并且该第一磁层的磁化与该第二磁层的磁化耦合且彼此反向平行。
搜索关键词: 垂直 记录 介质 存储 装置
【主权项】:
1.一种垂直磁记录介质,包括:衬底;软磁衬叠层结构,包括依次层叠在该衬底上的第一磁层、第一非磁性耦合层以及第二磁层;中间层,位于该软磁衬叠层结构上,并由非磁性材料形成;以及记录层,位于该中间层上,所述记录层具有垂直于该衬底表面的易磁化轴,其中,该第一磁层和该第二磁层由多晶软磁材料形成,以及该第一磁层和该第二磁层的表面内均具有易磁化轴,并且该第一磁层的磁化与该第二磁层的磁化耦合且彼此反向平行。
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