[发明专利]膜图案的形成方法、器件、电光学装置、电子仪器无效

专利信息
申请号: 200610105655.0 申请日: 2006-07-18
公开(公告)号: CN1909207A 公开(公告)日: 2007-02-07
发明(设计)人: 平井利充;守屋克之 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L21/288;H01L21/00;H01L27/00;H05B33/10;H05B33/12;H05K3/10;H05K1/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供将功能液配置在具有宽度不同的几个区域的图案形成区域内的情况下,形成的膜图案之间的膜厚没有差别的膜图案的形成方法。本发明的膜图案的形成方法的特征在于,具有:在基板18上层叠形成第1围堰层35和第2围堰层36的工序;通过将上述第1围堰层35及第2围堰层36图案形成,形成围堰34的工序,所述围堰具有由第1图案形成区域55、和与该第1图案形成区域55连续而且宽度比该第1图案形成区域55宽的第2图案形成区域56构成的图案形成区域13;设置上述围堰34,其中面对上述图案形成区域13的上述第1围堰层35的侧壁35s的接触角对于含有水的功能液是低于50°、上述第2围堰层36的接触角是比上述第1围堰层35的接触角大的角度。
搜索关键词: 图案 形成 方法 器件 光学 装置 电子仪器
【主权项】:
1.一种膜图案的形成方法,将含有H2O的功能液配置在由设在基板上的围堰区分的图案形成区域形成膜图案,该形成方法具有:在基板上配置第1围堰形成材料,形成第1围堰层的工序;在上述第1围堰层上配置第2围堰形成材料,形成第2围堰层的工序;通过对上述第1围堰层及第2围堰层图案形成,形成围堰的工序,所述围堰具有:由第1图案形成区域、和与该第1图案形成区域连续而且宽度比该第1图案形成区域宽的第2图案形成区域构成的图案形成区域;设置上述围堰,其中面对上述图案形成区域的上述第1围堰层的侧壁对上述功能液的接触角低于50°,上述第2围堰层的对于上述功能液的接触角比上述第1围堰层的接触角大的角度。
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