[发明专利]液晶装置的制造装置和制造方法、液晶装置及电子设备无效
| 申请号： | 200610105433.9 | 申请日： | 2006-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN1896826A | 公开（公告）日： | 2007-01-17 |
| 发明（设计）人： | 中田英男;宫下武 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种制造液晶装置的制造装置，该液晶装置具有：对置的一对基板；形成在所述一对基板中的至少一方基板的内面侧的取向膜；和被夹持在所述一对基板之间的液晶，该制造装置包括：成膜室；蒸镀部，其具有蒸镀源，通过物理蒸镀法在所述成膜室内对所述基板蒸镀无机材料，形成取向膜和配置在所述取向膜之下的基底膜；基底膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的大致上方，用于形成所述基底膜；和取向膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的斜上方，并具有遮挡板，用于形成所述取向膜，所述遮挡板具有用于选择性蒸镀无机材料的狭缝状开口部分。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 装置 制造 方法 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种制造液晶装置的制造装置，该液晶装置具有：对置的一对基板；形成在所述一对基板中的至少一方基板的内面侧的取向膜；和被夹持在所述一对基板之间的液晶，该制造装置包括：成膜室；蒸镀部，其具有蒸镀源，通过物理蒸镀法在所述成膜室内对所述基板蒸镀无机材料，形成取向膜和配置在所述取向膜之下的基底膜；基底膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的大致上方，用于形成所述基底膜；和取向膜形成区域，其位于所述成膜室内的所述蒸镀源的斜上方，具有遮挡板，用于形成所述取向膜，所述遮挡板具有用于选择性蒸镀无机材料的狭缝状开口部分。
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