[发明专利]凹版、使用凹版的发光层、空穴注入层的形成方法及有机发光器件无效

专利信息
申请号: 200610101540.4 申请日: 2006-07-11
公开(公告)号: CN1897326A 公开(公告)日: 2007-01-17
发明(设计)人: 武田利彦;森户秀;小林胜;白金弘之 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/12;B41M1/10;B41M3/00;B41N1/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张天安
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 用于有机发光器件的发光层和/或空穴注入层的形成的凹版,具有多个条纹形状的单元、和位于各单元件的非单元部,各单元的印刷方向的宽度b和与印刷方向正交方向的宽度a的比b/a为0.6以上,各单元的单元长度L和非单元部长度S的比L/S为0.8~100的范围。前述单元长度L为10~500μm的范围,前述非单元部长度S为2~500μm的范围,版深为20~200μm的范围。
搜索关键词: 凹版 使用 发光 空穴 注入 形成 方法 有机 器件
【主权项】:
1.一种凹版,用于有机发光器件的发光层和/或空穴注入层的形成,其特征在于,具有多个条纹形状的单元、和位于各单元件的非单元部,各单元的印刷方向的宽度(b)和与印刷方向正交方向的宽度(a)的比b/a为0.6以上,各单元的单元长度(L)和非单元部长度(S)的比L/S为0.8~100的范围,前述单元长度(L)为10~500μm的范围,前述非单元部长度(S)为2~500μm的范围,版深为20~200μm的范围。
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