[发明专利]制作悬浮结构的方法无效
| 申请号： | 200610101137.1 | 申请日： | 2006-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN101100281A | 公开（公告）日： | 2008-01-09 |
| 发明（设计）人： | 康育辅 | 申请（专利权）人： | 探微科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种制作悬浮结构的方法。所述方法包括：提供基底；在基底上形成第一光致抗蚀剂图案并加热使硬化以作为牺牲层；在基底与牺牲层上方形成暴露出部分牺牲层与基底的第二光致抗蚀剂图案；在基底、第二光致抗蚀剂图案与牺牲层上形成结构层；进行剥离工艺，移除第二光致抗蚀剂图案与位于第二光致抗蚀剂图案上的结构层；以及用干式蚀刻工艺移除牺牲层使结构层，形成悬浮结构。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 悬浮 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制作悬浮结构的方法，其包括：提供基底；在所述基底上形成第一光致抗蚀剂图案；加热所述第一光致抗蚀剂图案使所述第一光致抗蚀剂图案硬化，所述第一光致抗蚀剂图案作为牺牲层之用；在所述基底与所述牺牲层上方形成第二光致抗蚀剂图案，所述第二光致抗蚀剂图案暴露出部分所述牺牲层与部分所述基底；在所述基底、所述第二光致抗蚀剂图案与所述牺牲层上方形成结构层；进行剥离工艺，移除所述第二光致抗蚀剂图案与位于所述第二光致抗蚀剂图案上方的所述结构层；以及进行干式蚀刻工艺以移除所述牺牲层，使位于所述基底与所述牺牲层上方的所述结构层，形成所述悬浮结构。
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