[发明专利]浸润式微影系统与微影制程无效
| 申请号： | 200610099439.X | 申请日： | 2006-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN1932648A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 张庆裕;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种浸润式(Immersion)微影系统与制程。此系统至少包括：具有前表面的成像透镜、位于成像透镜的前表面下方的基材平台、浸润液维持结构，此浸润液维持结构是设置来容纳第一流体，其中第一流体是至少部分地填充在前表面与基材平台上的基材间的空间中。此浸润液维持结构包括第一入口和第二入口其中的至少一者，其中第一入口是位于靠近成像透镜并连接至真空泵系统，第一入口可操作来提供第一流体至前表面与基材之间；第二入口是位于靠近成像透镜，并可操作来提供第二流体至基材上。 | ||
| 搜索关键词： | 浸润 式微 系统 微影制程 | ||
【主权项】：
1、一种浸润式微影系统，其特征在于其至少包括：一成像透镜，具有一前表面；一基材平台，位于该成像透镜的该前表面的下方；以及一浸润液维持结构，设置来容纳一第一流体，其中该第一流体是至少部分地填充在该前表面与该基材平台上的一基材间的一空间中，该浸润液维持结构至少包括：一第一入口和一第二入口的其中至少一者，其中：该第一入口是位于靠近该成像透镜并连接至一真空泵系统，该第一入口可操作来提供该第一流体至该前表面与该基材之间；以及该第二入口是位于靠近该成像透镜，并可操作来提供一第二流体至该基材上。
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