[发明专利]电子束蚀刻装置及蚀刻方法无效

专利信息
申请号: 200610099248.3 申请日: 2006-07-21
公开(公告)号: CN101109905A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: 郑正元;詹德凤;郑奎文 申请(专利权)人: 东元电机股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 余朦;方挺
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种具有碳纳米管电子发射源的电子束蚀刻装置及蚀刻方法,该装置的结构主要包括真空腔体、阴极板、阳极板及驱动单元,其中该阴极板及阳极板均设置于真空腔体中,该阴极板上具有多个独立构成的阴极单元,该阴极单元的上方设有栅层,阳极板与阴极板对应平行设置,且该阳极板用于设置待进行蚀刻的基材,最后驱动单元与栅层及各阴极单元电连接,通过栅层来使得阴极单元产生电子束以进行蚀刻,由此使得蚀刻工艺的精密度增加,同时具有该阴极单元可替换的优势。
搜索关键词: 电子束 蚀刻 装置 方法
【主权项】:
1.一种电子束蚀刻装置,包括:真空腔体;阴极板,其设置于所述真空腔体中,所述阴极板上设有多个各自独立的阴极单元及栅导电层,且各阴极单元与栅导电层相互垂直对应;阳极板,其设置于所述真空腔体中,且与所述阴极板平行设置,并与所述阴极板上的阴极单元相对应,所述阳极板包括基板及蚀刻靶材,所述蚀刻靶材设置于所述基板内侧;驱动单元,其设置于所述真空腔体之外,且与所述阴极板上的各阴极单元及栅导电层电连接。
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