[发明专利]薄膜及其制造方法有效
申请号: | 200610095904.2 | 申请日: | 2003-04-23 |
公开(公告)号: | CN1911986A | 公开(公告)日: | 2007-02-14 |
发明(设计)人: | 田中英明;大场弘行;山崎昌博;长谷川智久 | 申请(专利权)人: | 株式会社吴羽 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L101/08;B32B27/30;B65D30/02;B65D65/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 梁谋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及包含聚羧酸系聚合物和多价金属化合物,阻氧等的阻气性优异,具有外观、形状和阻气性不受中性的水和高温水蒸气、热水损害的耐性的薄膜、层压件、其工业上简便且廉价的制造方法。本发明的薄膜及其层压件适合用作受氧等影响易于劣化的食品、饮料、化学试剂、医药品、电子零部件等精密金属零部件的包装物、包装容器、真空隔热材料,更适合用作需要长期稳定的阻气性、且需要进行蒸煮、高压灭菌等高温热水条件下的处理的物品的包装材料。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种含有聚羧酸系聚合物A和多价金属化合物B的母体薄膜,其中所述聚羧酸系聚合物为至少一种选自丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸和巴豆酸的α,β-单烯键式不饱和羧酸的均聚物或共聚物或者至少两种这些聚合物的混合物,并且该母体薄膜通过红外吸收光谱测得的波数1560cm-1处的吸收峰高度A1560与波数1700cm-1处的吸收峰高度A1700的峰值比A1560/A1700小于0.25。
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