[发明专利]自蔓延反应烧结Si3N4/BN复相可加工陶瓷的方法无效
| 申请号： | 200610089013.6 | 申请日： | 2006-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN1903789A | 公开（公告）日： | 2007-01-31 |
| 发明（设计）人： | 沈卫平;张强 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | C04B35/515 | 分类号： | C04B35/515;C04B35/584 |
| 代理公司： | 北京科大华谊专利代理事务所 | 代理人： | 刘月娥 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 自蔓延反应烧结Si3N4/BN复相可加工陶瓷的方法，属于自蔓延高温合成技术领域。化学炉采用的埋粉为Si粉和Si3N4粉的混合粉，其配比为：Si粉含量为50～70重量％，Si3N4粉含量为30～50重量％；Si3N4/BN可加工陶瓷原料配比为：BN粉含量为15～35体积％，Si粉含量为65～85体积％，再外加2～14重量％Al2O3粉，SHS反应的N2压力为4～10MPa。对于添加Si3N4粉稀释剂的Si3N4/BN可加工陶瓷原料配比为：BN粉含量为15～35体积％，Si粉含量为40～60体积％，Si3N4粉稀释剂的含量5～45体积％，再外加2～14重量％Al2O3粉，SHS反应的N2压力4～10MPa。其优点是：原料成本低，工艺简单，烧结速度快，效率高；产品可加工性能优良，适合制备一维，二维的大尺寸制品。 | ||
| 搜索关键词： | 蔓延 反应 烧结 si sub bn 可加工 陶瓷 方法 | ||
【主权项】：
1一种自蔓延反应烧结Si3N4/BN复相可加工陶瓷的方法，其特征在于：Si3N4/BN可加工陶瓷原料配比为：BN粉含量为15～35体积％，Si粉含量为65～85体积％，再外加2～14重量％Al2O3粉，料坯相对密度50～80％，化学炉采用的埋粉为Si粉和Si3N4粉的混合粉，其配比为：Si粉含量为50～70重量％，Si3N4粉含量为30～50重量％；SHS反应的N2压力为4～10MPa。
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