[发明专利]防磁头隧道磁电阻的磁阻阻抗降低的方法及微纹形成方法有效

专利信息
申请号: 200610081900.9 申请日: 2006-05-16
公开(公告)号: CN101075437A 公开(公告)日: 2007-11-21
发明(设计)人: 马洪涛;方宏新;陈宝华 申请(专利权)人: 新科实业有限公司
主分类号: G11B5/39 分类号: G11B5/39
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 代理人: 郝传鑫
地址: 中国香港新界沙田香*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 发明公开了一种防止磁头之隧道磁电阻的磁阻阻抗降低的方法,包括下列步骤:将由若干磁头结构的本体构成的磁条定位在一托盘上,每一磁头结构的本体具有一极尖,极尖具有一隧道磁电阻元件;将所述托盘装入处理室,抽空处理室至预设的压强;向所述处理室引入包含氧气的处理气体;及将所述磁头结构的本体暴露在处理气体中的蚀刻手段中,使隧道磁电阻元件表面氧化而形成一层氧化层。该氧化层阻止隧道磁电阻元件的电路形成分路,防止磁阻阻抗降低,从而改善磁头的动态性能及磁盘驱动装置的读取性能。本发明同时公开了在上述方法中在磁头表面形成微纹的方法,还公开了磁头的制造方法。
搜索关键词: 磁头 隧道 磁电 磁阻 阻抗 降低 方法 形成
【主权项】:
1.一种防止磁头之隧道磁电阻(TMR)的磁阻阻抗(MRR)降低的方法,其特征在于包括下列步骤:(a)将由若干磁头结构的本体构成的磁条(row bar)定位在一托盘上,每一磁头结构的本体具有一极尖(pole tip),极尖具有一隧道磁电阻元件(TMR element);(b)将所述托盘装入处理室,抽空处理室至预设的压强;(c)向所述处理室引入包含氧气的处理气体;及(d)将所述磁头结构的本体暴露在处理气体中的蚀刻手段(etchingmeans)中,使隧道磁电阻元件表面氧化而形成一层氧化层。
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